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高壓噴淋清洗機

工業(yè)純水機
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工業(yè)純水機系列 > EDI超純水設備
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產(chǎn)品名稱: EDI超純水設備
精簡描述: 適用產(chǎn)品:微電子工業(yè)、半導體工業(yè)、發(fā)電工業(yè)和實驗室
產(chǎn)品類別: 工業(yè)純水機系列
更新時間: 2016-11-8 9:42:20
瀏覽次數(shù): 4725

    EDI超純水設備適用于集成電路芯片,單晶硅,顯象管,液晶顯示器,計算機硬盤,線路板等工藝所需的純水和超純水制備。其關(guān)鍵器件采用美國Electropure公司的EDI模塊及HANNA公司的電導率表、電阻率表。其它主要配件則采用了國產(chǎn)優(yōu)質(zhì)材料及配件。這種配置方法既保證了設備長期穩(wěn)定的運行以節(jié)約了投資成本,進一步推動了EDI這種環(huán)保易用的水處理設備在中國的應用。本公司生產(chǎn)的PR-RO-EDI一體化設備采用全自動控制系統(tǒng),操作簡單,不需要酸堿再生,可連續(xù)生產(chǎn);不需要處理廢酸堿,安裝條件簡單,系統(tǒng)設計簡單,運行成本低,水質(zhì)穩(wěn)定,安裝維修簡便。

    EDI與傳統(tǒng)混床的比較——

    項目

    EDI

    混床

    產(chǎn)水性質(zhì)

    1518MΩ·cm

    210MΩ·cm

    穩(wěn)定性

    水質(zhì)穩(wěn)定

    水質(zhì)受樹脂交換狀況,再生品質(zhì)影響大

    操作性

    操作簡便,無需專業(yè)熟練工

    再生時對操作人員操作水平要求高

    環(huán)保性

    無需酸堿,無任何化學汙染

    需要酸堿再生,需解決酸堿儲存與排放的問題

    連續(xù)運行

    再生時無需停機,邊運行邊再生

    再生時需要停機再生

    運行費用

    初期投資

    較高


    拋光混床:采用高交換容量、充分再生、無化學析出的核子級樹脂,去除純水中殘余的微量帶電離子及弱電解質(zhì),使水質(zhì)達到
    18MΩ·cm以上。

    EDI模塊進水條件

    PH

    5.09.5

    電導率

    1~20μs/cm,最佳導電率220μs/cm

    C02

    <5ppm

    <0.5ppm

    硬度以(CaC03)

    <1.0ppm

    進水壓力

    0.150.5MPa

     

     

     

     應用領(lǐng)域

    超純水常用于微電子工業(yè)、半導體工業(yè)、發(fā)電工業(yè)和實驗室。

    EDI模塊結(jié)構(gòu)特點

    1、淡水隔板采用衛(wèi)生級PE材料       

    2EDI膜片采用進口均相膜和國產(chǎn)異相離子交換膜

    3、采用進口EDI專用均粒樹脂和國產(chǎn)EDI專用均粒樹脂   

    4、EDI電極板采用鈦鍍釕技術(shù)

    5、壓緊板采用具有硬性的合金鋁軋鑄而成。            

    6、固定螺絲采用國標標準件

    7、膜堆出廠最高試壓7bar不漏水                     

    8、膜堆電阻低、功耗小

    9、外觀裝飾板造型美觀結(jié)實         

    10、最大膜堆處理水量3T/H,最小模堆處理水量75L/H

    11、純水、濃水、極水通道設計合理,不易堵塞,水流分布均勻、無死角。

     進水指標要求

    通常為單級反滲透或二級反滲透的滲透水

    TEA(總可交換陰離子,以CaCO3):<25ppm。

    電導率:<40μS/cm

    H6.09.0。當總硬度低于0.1ppm時,EDI最佳工作的pH范圍為8.09.0

    溫度: 535。

    進水壓力:<4bar(60psi)

    硬度:(CaCO3):<1.0ppm。

    有機物( TOC):<0.5ppm

    氧化劑:Cl20.05ppm,O30.02ppm

    變價金屬: Fe0.01ppm,Mn0.02ppm。

    H2S:<0.01ppm

    二氧化硅:<0.5ppm。

    色度:<5APHA

    二氧化碳的總量:<10ppm

    SDI 15min:<1.0。

 
 
 
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